徐申学调控整个仙女山控股下属的半导体设备，材料研发体系，甚至动用自己的人脉关系，影响力以及其他资源，进而加速了DUV浸润式光刻机的大规模量产。

这让海湾科技的HDUV-400型光刻机的量产速度出现了提升。

“今年，我们将会确保为国内各芯片厂商提供至少五十台HDUV-400光刻机量产型，用于各厂商的芯片生产，同时将会再生产至少五台HDUV-500型光刻机的试产型号，用于智云微电子，中芯两家厂商的的测试，研发工作！”

“为了确保能够做到这一点，我们还将会进一步加大人员的招聘，培养力度！”

海湾科技的CEO王道林，为徐申学如此描绘今年光刻机领域里的生产以及研发情况。

“目前我们已经初步解决了500型光刻机的套刻精度问题，在子系统的测试中已经能够做到稳定三点五纳米的精度，可以支持十四纳米工艺的量产。”

“接下来我们将会试制一台样机进行整机测试，并在第三季度开始交付首台测试样机给智云微电子方面！”

“而更进一步的光刻机研发中，我们正在搞套刻精度两点五纳米，用以未来支持七纳米工艺的600型号，目前虽然还遇到了一些技术难题，不过我们正在加大力度进行转向的技术攻关，我们争取在未来的两年里解决这个技术难题。”

“只要解决这个两点五纳米的套刻的技术难题，那么我们的光刻机就能够进行高效的，高良率四重曝光，而高良率四重曝光技术则是可以用于等效七纳米工艺的大规模量产！”

“尽管我们和A**L还存在一定的技术差距，但是这种技术差距并不是不可跨越的，毕竟我们已经解决了最难的镜片以及光源部分，还解决了双工作台问题，如今我们只需要稳扎稳打，持续的进行技术优化，逐步提升，就能够把这个套刻精度逐步提升起来！”

徐申学道：“如此看来，我们的DUV浸润式光刻机应该是稳了，未来七纳米工艺也问题不大了。”

“那么七纳米工艺以下呢？我们正在搞的600型光刻机能否进一步突破极限，做到等效五纳米的芯片？”

王道林此时道：“七纳米工艺问题不大，而五纳米工艺的话虽然理论上可以通过多重曝光，比如八重曝光，使用现有DUV浸润式光刻机的134纳米波长的光源，也能用来制造等效5纳米工艺的芯片。”

“但是这需要光刻机提供更高的套刻精度，这样才能够在多重曝光的时候，每一次都对准芯片进行曝光。”

“如果套刻精度不够，那么在进行多重曝光的时候就无法对准，芯片良率就会低到一个非常夸张的程度。”

“按照我们的计算，600型光刻机的二点五纳米的套刻精度用来维持七纳米工艺量产是已经算是比较极限的了，到时候哪怕其他各方面的条件都比较理想，估计也就只能做到百分之八十左右的良率，而这还是理论数据，如果受到其他各方面的影响，实际生产的时候可能还达不到这个良率。” 本章未完，请点击下一页继续阅读！ 第1页/共9页