全面的国产自主化正在稳步推进当中。

当然，这需要时间，不可能说一夜之间就能够全部做到国产化的。

同时，即便是国产化的很多设备以及耗材其实做的比较勉强，属于勉强可用，但是用于商业化竞争的话就不太行的那种。

然后……还存在着极其严重的专利问题，不管是光刻机还是其他什么蚀刻机的设备，还是光刻胶这些耗材，基本都存在着侵犯国外同类厂商专利的情况！

这也导致了，仙女山控股体系下的很多半导体设备以及耗材，在国内倒是能够顺利申请专利并商用，但是在国外就申请不到专利，同时也无法出口商用了。

没办法，仙女山控股体系目前的核心目的是实现半导体产业的自主可控，自然是能抄就抄，抄不了就用商业间谍等各种方式强行抄。

总不能放着现有的道路不走，非要开辟全新，未知的技术路线啊。

这又不是什么常规的商业产品。

至于专利，国之重器，谁跟你玩什么专利啊。

为了获得这些先进技术资料，银河安保在外头每年都得死不少人，还专利……

专利没有，火箭筒倒是有不少。

在半导体制造领域，徐申学的策略一直都是非常明确的：先解决有无问题，其他的什么专利啊，好不好用，商业化好不好搞都往后排。

先把东西给弄出来，然后再考虑其他问题。

而海湾科技就是这一策略下的产物，并且截止到目前来说，这一策略可以说相当成功。

靠着不折手段再加上科研系统的辅助，还有国内数十年的工业基础积累，众多研究所，企业，高校的配合。

然后还有徐申学疯狂砸下去的数以百亿美元计的投入。

最终，呈现在徐申学面前的，就是这些光刻机了以及其他几种核心设备了。

王道林这个时候，正在给徐申学介绍他们的光刻机产品：“徐董，目前我们公司的前道光刻机产品，已经覆盖了i-line光刻机，KRF光刻机，DUV干式光刻机，DUV浸润式光刻机一共四大类型，工艺制程可以覆盖10纳米到500纳米。”

“其中我们的i-line光刻机已经推进到第二代，相对比第一代大幅度提升了产能，提升了效率，降低了芯片的制造成本，该光刻机用于成熟的350-500纳米的芯片生产，具有成本低，效率高的特性，目前广泛供应国内各厂商以及部分海外厂商，这款光刻机和我们的KRF光刻机，目前是没有专利障碍的，所以也面向国外客户供应，利用我们的低成本优势也获得了一定的海外市场，不过整体技术上还是对比国外的产品有差距，因此销量一般。”

“KRF光刻机，同样也进行了改进，推出了升级型号，提升了效率，这款光刻机用于成熟的130-250纳米工艺，该款光刻机我们的智云微电子里以及其他国内厂商大量采用，使用反馈很不错，乃是我们的诸多光刻机产品里，客户反馈最好的一款，成本低，容易维护，生产效率好，所以这一款光刻机我们的出货量还是比较大的，每年出货超过四十台！” 本章未完，请点击下一页继续阅读！ 第2页/共9页